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HiPIMS，低温ITO沉积的机会！
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新铂科技专注于高功率脉冲等离子体真空镀膜技术
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电源
HiPIMS电源，P3E电源， 100KHz偏压电源
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设备
高功率磁控PVD设备
高能脉冲弧PVD设备、管道PECVD镀膜设备 -
工艺
DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN
产品及解决方案
应用案例
about us
关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛在松山湖材料实验室成功举办
12月14日，由松山湖材料实验室、哈尔滨工业大学材料结构精密焊接与连接全国重点实验室以及等离子体放电团队孵化的高能脉冲PVD电源企业新铂科技(东莞)有限公司联合主办的“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”在松山湖材料实验室会议中心成功举行。...
- 2024-12-18 11:47:48 | →
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2024大湾区高能脉冲PVD论坛在莞举行
12月14日，“2024大湾区高能脉冲PVD论坛”在松山湖材料实验室举办。此次论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室联合举办，由高能脉冲PVD电源的领军企业新铂科技东莞有限公司提供支持。...
- 2024-12-18 10:37:22 | →
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250多名高能脉冲PVD专家齐聚东莞，共探技术产业融合路径
12月14日，来自高校、中国科学院、企业的250多名代表齐聚东莞“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”，共同研讨高能脉冲PVD（真空镀膜）领域的研究成果和未来发展趋势。论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室、新铂科技（东莞）有限公司联合举办。...
- 2024-12-18 10:34:05 | →
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2024大湾区高能脉冲 PVD 高峰论坛成功举办，引领行业前沿发展
2024年12月14日，备受瞩目的高能脉冲PVD高峰论坛在东莞松山湖材料实验室盛大召开。 本次论坛汇聚了北京大学、清华大学、浙江大学、中科院固体所、华南理工大学、哈尔滨工业大学、澳门大学、香港城市大学、季华实验室以及华为、华星光电等250多位国内该领域的专家、学者以及企业代表，共同探讨高能脉冲PVD技术的进展与未来趋势，为行业的发展注入了新的活力与智慧。...
- 2024-12-18 10:28:35 | →
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HiPIMS磁控溅射：材料制备的新趋势
HiPIMS磁控溅射技术具有独特的优势。与传统磁控溅射相比，它能在高功率脉冲模式下运行，产生高密度的等离子体。这使得溅射出来的原子或离子具有更高的能量和活性，在材料沉积过程中，可以更好地控制薄膜的微观结构...
- 2024-12-17 14:10:55 | →
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真空镀膜技术中，薄膜厚度的测量和控制是如何实现的？
这是一种常用的测量方法。其原理是基于光的干涉现象。当一束光照射到薄膜表面时，部分光被反射，部分光透过薄膜在基底和薄膜的界面再次反射，这两束反射光会发生干涉。通过检测干涉条纹的变化来确定薄膜的厚度。...
- 2024-12-04 15:33:37 | →
管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！
在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...
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真空镀膜的附着力探讨
一般来说，真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下，镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比，真空镀膜减少了杂质和氧化的影响，从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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HiPIMS电源可以沉积氧化物吗
HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射（DCMS），HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此，HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用，尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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HIPiMS技术在沉积过程中如何控制薄膜的微观结构
HIPiMS技术的核心是使用高功率脉冲放电，这导致了等离子体密度和离子化率的显著提高。通过调整脉冲峰值功率，可以改变溅射粒子的能量分布。较高的功率通常会导致更高的离子化率，从而影响薄膜的致密度和附着力。...
- 2024-09-25 15:29:36 | →