广东HiPIMS,低温ITO沉积的机会!
...
磁控溅射作为一种物理 气相沉积(PVD)技术,在材料科学与工程领域有着广泛的应用。它通过结合电场和磁场的作用,提高了溅射过程中的粒子利用率和沉积效率。磁控溅射可以根据不同的分类标准分为多种类型,每种类型都有其独特的工作原理和适用范围。以下是一些常见的磁控溅射种类及其工作原理概述:...
在展示区展出了新铂等离子体镀膜工艺成品与电源设备,让参展的嘉宾与展商皆感叹新铂科技在真空应用领域技术实力!...
2023年6月27-29日,在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)...
设备的特点和优势主要体现在以下几个方面。首先,PVD 设备可以在较低的温度下进行镀膜,这对于一些对温度敏感的材料来说非常重要,可以避免材料在高温下发生变形或性能改变。其次,PVD 设备能够控制膜层的厚度和成分,从而实现特定的性能要求...
镀膜工艺中,镀膜材料的特性对镀膜效果有着至关重要的影响。 首先,镀膜材料的硬度决定了镀膜后的表面硬度。如果镀膜材料本身硬度较高,那么镀成的膜层也会具有较高的硬度,能够更好地抵抗刮擦和磨损。...
HIPiMS技术制备的薄膜具有以下独特性能:HIPiMS技术能产生高密度的等离子体,使溅射出来的粒子具有较高的能量和活性,粒子在沉积到基底上时能够更紧密地堆积,形成致密度很高的薄膜...
在石油行业,人们正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而,随着石油产量的增加,也面临着更多的挑战,管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率(EOR)技术,生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化,...
一般来说,真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下,镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比,真空镀膜减少了杂质和氧化的影响,从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...
HiPIMS(高功率脉冲磁控溅射,High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一种薄膜沉积技术,它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射(DCMS),HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此,HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用,尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...
HIPiMS技术的核心是使用高功率脉冲放电,这导致了等离子体密度和离子化率的显著提高。通过调整脉冲峰值功率,可以改变溅射粒子的能量分布。较高的功率通常会导致更高的离子化率,从而影响薄膜的致密度和附着力。...
HIPiMS(High-Power Impulse Magnetron Sputtering,高功率脉冲磁控溅射)技术因其独特的物理和化学特性,在多个工业和科学研究领域有着广泛的应用。以下是HIPiMS技术的主要应用领域及其具体应用实例:...