HIPiMS技术的主要应用领域有哪些？

HIPiMS（High-Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）技术因其独特的物理和化学特性，在多个工业和科学研究领域有着广泛的应用。以下是HIPiMS技术的主要应用领域及其具体应用实例：

What are the advantages of PECVD protection technology

PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) is a technique for depositing thin films, widely used in semiconductor manufacturing, solar panel production, display manufacturing, and other fields. Compared with traditional CVD (Chemical Vapor Deposition) technology, PECVD has multiple advantages, especially in terms of protection, as follows:

HiPIMS电源可以沉积氧化物吗

高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，其特点是使用高功率脉冲对靶材进行激发，以提高溅射过程的离子化程度和沉积速率。

HIPIMS技术在金属双极板涂层中的应用

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）物理 气相沉积（PVD）技术，它通过使用高峰值功率和低占空比的脉冲电源来实现材料的溅射。

hipims脉冲电源控制模式

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脉冲电源控制模式是一种在薄膜沉积技术中广泛应用电源控制方式。

真空镀膜时为什么要用到高纯气体

真空镀膜时用到高纯气体的原因，可以归结为以下几点，下面将进行详细阐述：
一、减少杂质影响，提升薄膜质量

HiPIMS放电制备纯金属薄膜的优势

怎样提高高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）沉积速率？电源、磁场、工艺自身！