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管道结垢难题有解了!DLC薄膜助力石油行业发展!


在石油行业,人们正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而,随着石油产量的增加,也面临着更多的挑战,管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率(EOR)技术,生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化,

高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命,为获得性能良好的膜层,研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数,强化了膜层的结合力,硬度以及摩擦磨损的性能。

新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm

为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征,我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式,即电-磁场协同增强HiPIMS技术,该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电,增加溅射粒子离化率,改善薄膜的的沉积速率,制备的膜层性能优异。

脉冲磁控溅射的工作原理和工作方式

脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷,同时可以提高溅射沉积速率,降低沉积温度等一系列显著优点。

溅射镀膜的原理

自1852年,格洛夫发现阴极溅射现象,对于溅射技术的运用便逐步发展起来,从上世纪80年代至今,磁控溅射技术在表面工程领域占据举足轻重的地位。磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,是一种十分有效的薄膜沉积方法。

真空蒸镀法与溅射镀膜技术介绍

真空蒸镀法与溅射镀膜技术不同区别的介绍
一、真空蒸镀法
真空蒸镀是将装有基片的真空室抽成真空,然后加热被蒸发的镀料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到基片表面,凝结形成固体薄膜的技术.

真空镀膜工艺流程

真空镀膜是一种常见的表面处理工艺,常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤:

1. 基材清洗:将待处理的基材表面进行清洗,以去除表面的油污、灰尘等杂质,确保表面干净。

新铂校园版电源上线

HiPIMS-400是新铂科技针对高校镀膜实验需求设计的一款高功率脉冲磁控溅射电源。可以实现脉冲+直流的组合输出。