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镀膜工艺中的镀膜界表面预处理是为了什么?

我们都知道纳米颗粒由于具有大的表面能,拥有自聚集效应。在一个平坦的表面,表面堆积一层纳米颗粒,随着温度的上升,一般可能会出现纳米颗粒之间的聚集和相互作用。而后才与平坦表面发生作用。经典测试表明,金属之间的互扩散需要达到材料熔点的80%。

利用阳极层离子源在管道内壁制备类金刚石涂层

阳极层离子源由于其简单性和将气体转变为离子束的能力而被广泛研究,其主要功能是在使用期间360°范围内连续产生离子束。通过简单地沿着直管或弯管牵引离子源就可以实现管道内壁涂层的制备。利用传统的物理气相沉积如直流/射频磁控溅射和PLD方法制备的类金刚石(DLC)涂层通常包含结构缺陷,如针孔、孔洞和裂纹。

HiPMS利器新应用-高熵合金薄膜制造

高熵合金氮化物薄膜是一种基于高熵合金设计理念的产物,在热力学和动力学上可以分别具有更低的吉布斯自由能和更小的元素扩散速率,抑制了金属间化合物有序相的生成,促进简单固溶体结构甚至非晶相的形成。

高功率脉冲磁控溅射技术(上)

高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS),由Kouznetsov1等人于1999年提出,是在脉冲功率技术的基础上发展起来的一种极有前途的磁控溅射技术。

高功率脉冲磁控溅射技术简介(下)

在磁控溅射技术中,可以通过控制沉积参数的变化,转移到成膜粒子的能量,从而调控薄膜性质28。在为生长膜提供能量的各种方法中,电离物质的轰击被广泛使用29,30。 

HiPIMS利器新应用-高熵合金薄膜制造

高熵合金氮化物薄膜是一种基于高熵合金设计理念的产物,在热力学和动力学上可以分别具有更低的吉布斯自由能和更小的元素扩散速率,抑制了金属间化合物有序相的生成,促进简单固溶体结构甚至非晶相的形成。

采用脉冲直流PECVD工艺在长管内沉积DLC膜层

管道作为一种流体运输工具,管道内表面经常暴露在复杂的介质中。这些流体中存在的污染物或腐蚀性元素会导致管道内壁腐蚀破损,每年都会造成巨大的经济损失。

PVD前处理主要是清理掉什么?

大家都知道PVD的前处理很重要,甚至有人说,一个膜层镀好,可能有50%以上决定于前处理。那么前处理,主要清理掉什么呢?