公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊
公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊,彰显新铂科技在高功率磁控溅射方面有较多的技术积累。
对比阴极弧与HiPIMS对AlTiN沉积膜层的研究
目前制备硬质合金涂层主要可采用PVD方式,而PVD沉积除磁控放电外,还有阴极弧放电进行涂层PVD沉积,相比磁控,阴极弧放电结构简单,已广泛应用于各种涂层技术的制备,如装饰镀层,其工艺沉积速率快。随着工艺的要求逐渐提高,硬质合金涂层在硬度等方面提出了更高的要求,