HiPIMS设备：高能脉冲弧PVD设备及脉冲复合PVD设备
HiPIMS设备产品介绍：
高功率离子源在高离子电流密度下在更大面积上实现均匀、更大的离子沉积分布。
不同金属、合金和氧化物的混合溅射，膜层均匀。
全自动控制系统，防腐能力极高
0769-81001639
语言切换 
中文
