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新铂科技专注于高功率脉冲等离子体真空镀膜技术

  • 电源 电源

    电源

    HiPIMS电源，P3E电源， 100KHz偏压电源

  • 设备 设备

    设备

    高功率磁控PVD设备
    高能脉冲弧PVD设备、管道PECVD镀膜设备

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    工艺

    DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN

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应用案例

about us

关于新铂

公司简介

新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。

  • 60%

    研发人员占比

  • 300+

    发布学术论文

  • 4.5星级

    客户好评

  • 50+个

    课题合作研发

  • 20+个

    定制开发项目

公司简介

企业荣誉

新闻中心


HiPIMS，低温ITO沉积的机会！

天津HiPIMS，低温ITO沉积的机会！

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真空磁控溅射涂层技术与真空蒸发涂层技术的区别

天津真空磁控溅射涂层技术与真空蒸发涂层技术的区别

真空磁控溅射涂层技术不同于真空蒸发涂层技术。溅射是指核能颗粒轰击固体表面（目标），使固体原子或分子从表面射出的现象。...

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管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！

天津管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！

在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...

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  • 真空镀膜技术如何实现多层膜的沉积

    天津真空镀膜技术如何实现多层膜的沉积

    真空镀膜技术实现多层膜的沉积主要通过以下几种方式： 一、交替沉积法...

    2024-10-31 10:29:45   |   →
  • 真空镀膜的附着力探讨

    天津真空镀膜的附着力探讨

    一般来说，真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下，镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比，真空镀膜减少了杂质和氧化的影响，从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...

    2024-10-19 15:32:17   |   →
  • HiPIMS电源可以沉积氧化物吗

    天津HiPIMS电源可以沉积氧化物吗

    HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射（DCMS），HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此，HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用，尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...

    2024-09-29 10:22:14   |   →
  • HIPiMS技术在沉积过程中如何控制薄膜的微观结构

    天津HIPiMS技术在沉积过程中如何控制薄膜的微观结构

    HIPiMS技术的核心是使用高功率脉冲放电，这导致了等离子体密度和离子化率的显著提高。通过调整脉冲峰值功率，可以改变溅射粒子的能量分布。较高的功率通常会导致更高的离子化率，从而影响薄膜的致密度和附着力。...

    2024-09-25 15:29:36   |   →

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