真空镀膜是什么

真空薄膜的制备，包括金属、半导体、绝缘体和其他元素或复合薄膜。虽然化学气相沉积也采用真空压、低压或等离子体等真空手段，但一般的真空镀膜是指通过物理方法沉积薄膜。真空镀膜有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜三种形式。

真空镀膜技术出现于20世纪30年代，40、50年代开始出现工业应用，80年代开始工业大规模生产，在电子、航空航天、包装、装饰、烫金印刷等行业得到了广泛应用。真空镀膜是指在真空环境下将金属或金属化合物以气相形式沉积在材料(通常为非金属材料)表面，是一种物理气相沉积过程。由于涂层往往是金属薄膜，故又称真空金属化。广义真空镀膜还包括金属或非金属材料表面的高分子真空蒸发等非金属功能膜。在所有电镀材料中，塑料是常见的，其次是纸张涂层。与金属、陶瓷、木材等材料相比，塑料具有来源充足、性能易于控制、加工方便等优点，因此各种塑料或其他高分子材料作为工程装饰结构材料，大量应用于汽车、家用电器、日常包装、工艺装饰等工业领域。但是塑料材料表面硬度不高,不够华丽的外观和耐磨性较低的缺陷,如在塑料表面蒸发,薄薄的一层金属薄膜,可以给塑料阿尔弗雷德金属的外观,合适的金属源也可以大大增加表面耐磨性,大大拓宽了塑料的装饰和应用范围。

真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了它的应用领域非常丰富。一般来说，真空镀膜的主要作用包括使被镀膜部件表面具有较高的金属光泽和薄膜材料中的镜面效果。所述薄膜层具有优异的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。