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短时多脉冲HiPIMS技术&低偏压、低应力的DLC薄膜
DOMS(短时多脉冲HiPIMS技术)的18个连续短振荡显著减少了离子回吸,并利用脉冲间残留等离子体促进再点燃,使到达基底的碳离子流密度提高至4倍,从而实现离子辅助沉积。
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表面改性:重塑材料界面性能
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镀膜电源是什么?
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