新铂科技-生态分享（1）hipims-SiO2

用Hipims制备Cr保护膜 Hipims-Cr

用Hipims正脉冲 低温获得立方Y2O3高温相 文献中实验室小靶Hipims的案例分享（3）Hipims-Y2O3

新型的真空镀膜技术和材料的研究进展如何？

原子层沉积（ALD）技术：具有原子级的厚度控制精度和优异的膜层均匀性，可在复杂形状的基底上实现高质量镀膜。目前在半导体、微电子等领域应用广泛，如用于制备高介电常数的超薄绝缘层，以提高晶体管性能和降低功耗

真空镀膜过程中可能出现哪些缺陷

针孔是真空镀膜中较为常见的问题。这主要是由于镀膜材料在沉积过程中，基片表面的微小杂质、灰尘或者气体残留所导致。例如，在蒸发镀膜时，如果基片清洗不够彻底，表面残留的颗粒会使镀膜材料在其周围无法均匀沉积，形成针孔。

高能脉冲PVD技术相比传统PVD有何优势？

致密度更高：高能脉冲PVD在沉积过程中，能够产生高密度的等离子体，使沉积粒子具有更高的能量，从而在基底上形成更致密的膜层。例如，在制备硬质涂层时，其形成的膜层结构更加紧密

高能脉冲PVD技术可以制备哪些膜层？

如氮化钛（TiN）膜层。TiN具有高硬度、良好的耐磨性和化学稳定性。在刀具涂层领域应用广泛，通过高能脉冲PVD技术制备的TiN膜层，能够显著提高刀具的使用寿命。

高能脉冲 PVD 的基本物理原理是什么？

PVD是在高温下将靶材蒸发后沉积到工件表面形成镀膜的技术。高能脉冲PVD是PVD技术的一种改进形式，它的基本物理原理如下：