公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊

公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊，彰显新铂科技在高功率磁控溅射方面有较多的技术积累。

1. HiPIMS电源的设计基础及研究进展

2. 基于高功率脉冲磁控溅射的Cr膜层研究进展

3. 高引燃脉冲新HiPIMS模式对TiN/CrN多层膜结构和性能的影响

4. 电-磁场协同增强HiPIMS技术的CrAl靶放电行为及CrAlN薄膜制备

5. 基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

6. 高功率脉冲磁控溅射管内壁沉积Cr薄膜结构及性能

7. 细长管内表面镀Cu过程中的空心阴极辉光电

下附相关链接：

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