真空镀膜技术入门概念

　　真空镀膜技术是一种在真空中制备薄膜材料的技术，它是材料科学、物理学、化学和工程技术的交叉领域。以下是对真空镀膜技术的一些基本概念的介绍：

　　真空：在真空状态下，没有物质可以存在于真空中，因此真空中没有气体分子。

　　真空泵：真空泵是一种用于抽取气体分子并使真空系统保持低压力的设备。

　　蒸发镀膜：蒸发镀膜是将固体材料加热到足够高的温度，使其蒸发并在基材上形成固态薄膜的过程。

　　溅射镀膜：溅射镀膜是使用高能离子或电子束轰击靶材，使靶材上的原子或分子溅射出来并在基材上形成固态薄膜的过程。

　　化学气相沉积（CVD）：CVD是一种在真空中通过化学反应在基材上形成固态薄膜的过程。

　　物理气相沉积（PVD）：PVD是一种在真空中通过物理过程将靶材上的原子或分子转移到基材上形成固态薄膜的过程。

　　薄膜：薄膜是指在基材上制备的一层厚度在纳米到微米范围内的材料。

　　基材：基材是指被镀膜的物体，可以是金属、陶瓷、玻璃等。

　　镀膜剂：镀膜剂是指用于镀膜的材料，可以是金属、陶瓷、玻璃等。

　　镀膜机：镀膜机是一种用于在基材上制备薄膜的设备，它通常由真空泵、加热系统、控制系统等组成。

　　真空镀膜技术广泛应用于各种领域，如光学、电子学、生物学、医学等。