真空镀膜时为什么要用到高纯气体

　　真空镀膜时用到高纯气体的原因，可以归结为以下几点，下面将进行详细阐述：

　　一、减少杂质影响，提升薄膜质量

　　在真空镀膜过程中，薄膜的质量直接受到所用气体纯度的影响。高纯气体通常指纯度较高、杂质含量较低的气体，使用这样的气体可以减少杂质对薄膜质量的影响。即使微小的杂质也可能对薄膜的纯度和性能产生不利影响，因此，使用高纯度气体可以限度地减少这种可能性。通过减少杂质的影响，高纯气体能够确保薄膜具有更高的纯度和更优异的性能。

　　二、防止污染，保持沉积过程纯净性

　　某些气体中可能存在有害的杂质，例如水分、氧气或其他气体成分，这些杂质可能对薄膜沉积过程产生不利影响，导致薄膜的污染或不均匀性。高纯气体有助于减少这些杂质的存在，从而保持沉积过程的纯净性。通过减少污染，高纯气体能够确保薄膜的均匀性和一致性，提高薄膜的整体性能。

　　三、高纯气体在真空镀膜中的具体应用

　　在真空离子镀膜中，高纯气体（如氧、氮、氩、乙炔等）在真空条件下放电实现镀膜。金属在特定条件下与高纯气体综合作用形成离子体，在高速作用下撞击加工工件表面，离子体牢牢粘附在工件表面形成膜层。不同气体所生产出来的产品色泽也会不一样，这显示了高纯气体在真空镀膜中的重要作用。

　　四、高纯气体对镀膜工艺和产品性能的影响

　　高纯气体的使用不仅影响镀膜过程，还直接影响产品的性能。例如，在PVD涂层工艺中，高纯气体的应用可以显著提高产品表面硬度、耐磨性、耐蚀性、耐热性以及润滑性等性能。这些性能的提升对于模具、零件等五金制品的品质和使用寿命有着重要影响，能够使其更好地发挥产品的潜能。

　　五、总结

　　综上所述，真空镀膜时用到高纯气体主要是为了减少杂质影响、防止污染、保持沉积过程纯净性，并确保薄膜具有优异的性能。高纯气体在真空镀膜中的应用不仅体现了现代化工技术的精湛水平，也为各行各业提供了更高质量、更高性能的产品。随着科技的不断进步和工业生产的不断发展，高纯气体在真空镀膜领域的应用将会越来越广泛，为人类的科技进步和社会发展做出更大的贡献。