HIPiMS 技术制备的薄膜具有哪些独特的性能？

HIPiMS技术制备的薄膜具有以下独特性能：HIPiMS技术能产生高密度的等离子体，使溅射出来的粒子具有较高的能量和活性，粒子在沉积到基底上时能够更紧密地堆积，形成致密度很高的薄膜，可有效减少薄膜中的孔隙和缺陷，提高薄膜的阻隔性能，在包装材料领域能更好地阻挡氧气、水汽等的渗透，延长包装内物品的保质期。该技术产生的等离子体能够对基底表面进行清洗和活化，增强薄膜与基底之间的结合力，使薄膜牢固地附着在基底上，对于一些对附着力要求较高的应用场景非常重要，如刀具涂层，能确保薄膜在高速切削等恶劣工况下依然保持良好的附着状态，不易脱落。

HIPiMS制备的薄膜通常具有较高的硬度和强度，高强度的离子轰击效应可以使薄膜的晶粒细化，增加薄膜的结晶度，从而提高其硬度和强度，在制备高熵合金氮化物薄膜时，硬度可达到超硬水平，具有优异的耐磨性能，可应用于航空发动机抗冲刷涂层和切削刀具涂层等领域。在HIPiMS技术的作用下，薄膜的微观结构可以得到准确调控，可以形成从无定形致密的非晶态到纳米晶态、再到柱状晶的连续变化结构，这种独特的微观结构能够赋予薄膜特殊的物理和化学性能，满足不同应用场景的需求。HIPiMS技术产生的等离子体分布较为均匀，使得薄膜在大面积沉积时也能保持良好的均匀性，对于大规模生产和大面积应用具有重要意义，如在太阳能电池板、显示屏等领域，能够保证薄膜的性能一致性。

由于薄膜的致密度高、结晶度好等特点，使其在高温环境下依然能够保持较好的稳定性，不易发生结构变化和性能退化，适用于一些高温工作环境的应用场景。