HiPIMS技术制备纯金属薄膜时，靶材的选择需要考虑哪些因素？

HiPIMS 技术制备纯金属薄膜时，靶材的选择需综合考量多方面因素。

首先是纯度，高纯度靶材可减少薄膜杂质，稳定性能与化学特性，杂质过多会使薄膜电学、光学等性能劣化。物理性质不容忽视，熔点与沸点影响沉积过程，低熔点靶材要控功率防熔化，高熔点的则需权衡设备与成本；密度大、硬度高的靶材抗溅射侵蚀能力强，利于保持薄膜均匀性。

化学性质方面，靶材要有良好化学稳定性，避免与气体、环境反应，且与基底有相容性，确保附着力。尺寸和形状上，依据薄膜沉积面积、厚度及应用场景选，大尺寸适合大面积制备，不同形状如圆形、矩形、柱状分别适配相应系统。成本与供应也关键，在满足性能前提下选低成本靶材，同时保障供应稳定，像常见金属靶材供应足，稀有金属靶材成本高且供应受限需谨慎选用。