真空镀膜的特点

真空镀膜技术与湿法镀膜技术相比，具有以下优点:

(1)膜材和基片材料选择广泛，膜厚可控制，可制备多种功能不同的功能膜。

(2)薄膜是在真空条件下制备的，环境干净，薄膜不易被污染，因此可以获得密度好、纯度高、涂层均匀的薄膜。

(3)涂膜与基体结合强度好，涂膜牢固。

(4)涂层干燥后不会产生废液，也不会对环境造成污染。

真空镀膜技术主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空束流沉积、化学气相沉积等方法。除化学气相沉积外，其他方法都有以下共同特点:

(1)各种镀膜技术都需要特定的真空环境，以保证薄膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成的蒸汽分子的运动，不受大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰，并消除大气中杂质的不利影响。

(2)各种镀膜工艺都需要有蒸发源或目标，以使薄膜材料蒸发成气体。由于对来源或目标的不断改进，电影制作材料的选择范围大大扩大。无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷还是有机材料，各种金属和电介质薄膜都可以蒸制，还可以不同材料同时蒸制得到多层薄膜。

(3)蒸发或溅射制膜材料，在与待镀工件形成薄膜的过程中，可以更准确地测量和控制薄膜厚度，从而保证薄膜厚度的均匀性。

(4)每片膜都可以通过微调阀控制涂层腔内残留气体的组成和质量分数，从而防止材料的氧化蒸发，将氧气的质量分数降低到较低，还可以充入惰性气体，这是湿式涂层无法实现的。

(5)由于涂装设备的不断改进，涂装过程可以实现连续，从而大大提高产品的产量，并在生产过程中对环境造成污染。

(6)由于薄膜是在真空条件下制备的，薄膜纯度高，致密性好，表面光亮，无需再加工，使薄膜的机械性能和化学性能优于电镀膜和化学膜。[２]