真空镀膜工艺流程
真空镀膜是一种常见的表面处理工艺,常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤:
1. 基材清洗:将待处理的基材表面进行清洗,以去除表面的油污、灰尘等杂质,确保表面干净。
2. 基材加热干燥:将清洗后的基材进行加热干燥,以去除表面残留的水分和挥发性有机物,确保表面干燥清洁。
3. 蒸发源装载:将需要镀膜的材料(也称蒸发源)装载到真空镀膜设备中,并通过控制电流或磁控来加热材料,使其产生蒸汽。
4. 沉积:将基材置于真空镀膜设备内,使其表面与蒸发源中的蒸汽接触,使蒸汽沉积在基材表面上形成薄膜。
5. 退火:在完成沉积后,进行退火处理,以提高薄膜的质量和稳定性。
6. 放气:在完成退火处理后,将真空镀膜设备内的气体放出,将基材取出并进行后续的加工处理。
以上就是真空镀膜工艺流程的主要步骤,通过严格控制每个步骤的参数和条件,可以制造出高质量的镀膜产品。