新铂科技-生态分享（1）hipims-SiO2

用Hipims制备Cr保护膜 Hipims-Cr

用Hipims正脉冲 低温获得立方Y2O3高温相 文献中实验室小靶Hipims的案例分享（3）Hipims-Y2O3

真空镀膜技术如何实现多层膜的沉积

真空镀膜技术实现多层膜的沉积主要通过以下几种方式：
一、交替沉积法

真空镀膜的附着力探讨

一般来说，真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下，镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比，真空镀膜减少了杂质和氧化的影响，从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。

HiPIMS电源可以沉积氧化物吗

HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射（DCMS），HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此，HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用，尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。

HIPiMS技术在沉积过程中如何控制薄膜的微观结构

HIPiMS技术的核心是使用高功率脉冲放电，这导致了等离子体密度和离子化率的显著提高。通过调整脉冲峰值功率，可以改变溅射粒子的能量分布。较高的功率通常会导致更高的离子化率，从而影响薄膜的致密度和附着力。

HIPiMS技术的主要应用领域有哪些？

HIPiMS（High-Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）技术因其独特的物理和化学特性，在多个工业和科学研究领域有着广泛的应用。以下是HIPiMS技术的主要应用领域及其具体应用实例：