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六甲基二硅氧烷（HMDSO）前驱体制备耐腐蚀薄膜
金属制品是生活中不可或缺的，大到轮船飞机，小到铁钉螺丝。现代工业的发展，是以金属为骨骼，但是金属在使用过程中极易腐蚀。防腐蚀工艺有很多种，真空镀膜就是其一。
HiPIMS靶材溅射速率
HiPIMS由于高峰值电流及其高离化率，可以得到性能优异的致密膜层，伴随而来的HiPIMS溅射速率也会相对更低，本文将分析HiPIMS溅射速度低的原因及可能的改进方法。
HiPIMS自组织放电高分辨光谱影像学
因磁场约束，以及超高功率放电，高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时，其放电状态也有很大差异，辉光会形成不同的放电组织和斑图形式。伴随着这些增强型斑图辉光放电，其内部粒子成分放电状态如激发与电离存在差异，如何直观研究这些变化，高分辨光谱影像学是一种有效的手段，可直观观察不稳定区域的放电形式与变化。
直流偏压对HMDSO制备C：SiOX膜层性能的影响
HMDSO制备C：SiOX膜层具有优异的耐腐蚀性能，上篇讲到HMDSO/O2比例对膜层成分，耐腐蚀性能与硬度影响。在整个镀膜过程中，偏压也是影响HMDSO制备的C：SiOX膜层性能的因素之一。
钢管内壁沉积的类金刚石膜层的耐腐蚀性能
类金刚石碳(DLC)涂层具有高耐磨性、摩擦系数极低、耐腐蚀性高的优良性能。由于这些优良的性能，DLC涂层在石油天然气、半导体、医疗和汽车等行业中引起了广泛的关注。
HiPIMS有无局部离化区的放电对比研究
高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）因磁场约束放电，其靶材附近的放电形式变化多样。放电的不稳定性，等离子体均匀性，等离子体的磁约束情况都是非常值得研究的内容，如等离子体局部离化，电子逃逸等导致的等离子体形状变化如条形斑图，环状斑图等。