HIPiMS技术,真空镀膜,镀膜工艺,镀膜电源,表面改性,真空设备,DLC涂层 - 新闻动态

语言切换

真空镀膜技术与湿法镀膜技术相比，具有以下优点:

(1)膜材和基片材料选择广泛，膜厚可控制，可制备多种功能不同的功能膜。

真空镀膜技术一般分为两类，即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。

真空镀膜原理:

1. 物理气相沉积技术是指利用各种物理方法，在真空条件下汽化成原子和分子或电离成离子，将电镀材料直接沉积在基材表面的方法。

真空镀膜技术应用领域？随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带...

真空镀膜玻璃的好处及用途金属PVD真空电镀VS金属化学镀金属PVD真空镀膜具有结合力强、护色时间长、耐磨性强等特点

真空镀膜设备行业竞争格局

真空镀膜技术源于国外，凭借先发优势和大量投入的研发资金，国际企业在全球真空镀膜设备开发生产市场仍处于地位。在国际市场上，真空镀膜设备市场主要由应用材料公司占据。公司拥有雄厚的资金实力、技术水平和丰富的行业经验。

真空薄膜的制备，包括金属、半导体、绝缘体和其他元素或复合薄膜。虽然化学气相沉积也采用真空压、低压或等离子体等真空手段，但一般的真空镀膜是指通过物理方法沉积薄膜。真空镀膜有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜三种形式。

共 119 条记录首页上一页 11 12 13 1415