真空薄膜的制备，包括金属、半导体、绝缘体和其他元素或复合薄膜。虽然化学气相沉积也采用真空压、低压或等离子体等真空手段，但一般的真空镀膜是指通过物理方法沉积薄膜。真空镀膜有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜三种形式。
0769-81001639
语言切换 
中文
