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什么是真空镀膜，它有什么作用
真空镀膜技术是一种在真空条件下，利用物理或化学方法将材料蒸发或离子化后沉积于基材表面形成薄膜的过程。这种方法广泛应用于光学、电子、包装、装饰等行业，具有许多优点，如薄膜均匀性好、附着力强、厚度可控等。
HiPIMS电源的设计基础及研究进展
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种物理 气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）技术，它通过高频脉冲放电在磁控溅射靶材表面产生强烈的等离子体，从而实现的材料沉积。HiPIMS技术的关键在于其电源设计，因为电源性能直接影响到等离子体密度、薄膜质量和沉积速率等重要参数。
What are the advantages of PECVD protection technology
PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) is a technique for depositing thin films, widely used in semiconductor manufacturing, solar panel production, display manufacturing, and other fields. Compared with traditional CVD (Chemical Vapor Deposition) technology, PECVD has multiple advantages, especially in terms of protection, as follows:
PECVD防护技术有哪些优势？
PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积）是一种用于沉积薄膜的技术，广泛应用于半导体制造、太阳能电池板生产、显示器制造等领域。PECVD相比传统CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积）技术具有多项优势，特别是在防护性方面，具体如下：
HiPIMS放电制备纯金属薄膜的优势
HiPIMS（High-Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）它在制备纯金属薄膜方面展现出了显著的优势。下面列举了一些主要的优点：
HiPIMS电源可以沉积氧化物吗
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，其特点是使用高功率脉冲对靶材进行激发，以提高溅射过程的离子化程度和沉积速率。
HIPIMS技术在金属双极板涂层中的应用
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）物理 气相沉积（PVD）技术，它通过使用高峰值功率和低占空比的脉冲电源来实现材料的溅射。
