利用HiPIMS制备出的Ti-Si-N薄膜硬度可以达到66GPa！

Ti-Si-N是被认为是一种高硬度的膜层，Veprek（1999）提出了一种结构模型，认为是非晶包含纳米晶结构。这有点类似于我们见到的沥青和石头混合路面结构。这里的纳米晶尺寸和非晶含量的多少是很讲究的。

HiPIMS技术解决碳基涂层

HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）技术是一种先进的物理相沉积（PVD）技术，广泛用于解决碳基涂层的相关问题。碳基涂层是一种重要的功能性涂层，应用于各种工业领域，包括刀具、模具、汽车零部件等。下面将详细介绍HiPIMS技术如何解决碳基涂层的问题。

HiPIMS技术解决碳基涂层

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技术是一种用于制备碳基涂层的先进技术。碳基涂层是一种由碳元素构成的薄膜，具有许多优异的性质和应用。以下是关于HiPIMS技术解决碳基涂层的一些信息

镀膜工艺技术分类和理论

镀膜工艺技术是一种将薄膜或涂层沉积在基材表面的技术，以改变其表面性能或增加其功能。它在工业生产和科学研究中具有广泛的应用，从电子设备到汽车零件，再到医疗器械，都离不开镀膜技术。镀膜技术按照不同的原理和方法可分为多种分类。

真空镀膜设备原理

真空镀膜设备是一种用于在物体表面进行薄膜镀层的设备，常见于电子、光学、汽车、装饰等行业。其原理主要基于真空蒸发或磁控溅射等技术，以下是真空镀膜设备的基本原理：

HiPIMS放电制备纯金属薄膜的优势

高功率磁控溅射(HiPIMS) 制备ITO柔性膜

怎样提高高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）沉积速率？电源、磁场、工艺自身！