新铂科技参加2023国际新材料展

2023年6月27-29日，在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)

不平凡的钒靶HiPIMS（放电区直径约３０ｍｍ放电电流达１４０Ａ）

金属钒（V）作为一种高熔点的稀有金属材料，常与铌、钽、钨、钼并称为难熔金属。金属钒具有耐盐酸和硫酸的性能，并且耐气-盐-水腐蚀的性能要比大多数不锈钢好。在某些特殊的重要场合，金属V薄膜常被用来作为高温隔离防护涂层，因此开展V靶HIPIMS放电特性方面的研究工作具有重要的意义。

HiPIMS，低温ITO沉积的机会！

6种靶材HiPIMS放电大不相同，设计工艺要知道!

HiPIMS放电，由于工作在放电曲线的特殊区域，其放电特性不仅依赖于使用的气压、电压，更依赖于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脉冲工作，其放电特性具有时间特征，而表现出不同的放电特性。这里我们选用常用的几种靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），给出了他们的放电特性。这种与时间相关的放电特性，对于工艺设计是非常重要的。

高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命，为获得性能良好的膜层，研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数，强化了膜层的结合力，硬度以及摩擦磨损的性能。

新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm

为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征，我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式，即电-磁场协同增强HiPIMS技术，该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电，增加溅射粒子离化率，改善薄膜的的沉积速率，制备的膜层性能优异。

双脉冲HiPIMS比传统HiPIMS沉积速率提高近3倍

一种新型的高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术，即放电由脉宽短、电压高的引燃脉冲和脉宽长、电压低的工作脉冲2部分组成的双脉冲高功率脉冲磁控溅射技术，目的是解决传统高功率脉冲磁控溅射沉积速率低的问题。

真空电源从“Nokia”到“Iphone”