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PECVD的关键工艺参数包括哪些,它们如何影响薄膜的特性?

PECVD(等离子体增强化学气相沉积)的关键工艺参数包括以下几个方面:

在PECVD过程中,哪些因素可能导致无法起辉,以及如何处理这些故障?

在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)过程中,以下是一些可能导致无法起辉的因素及处理方法:

环保要求对真空镀膜行业有哪些影响?

首先,在生产工艺方面,环保要求促使真空镀膜行业不断改进和优化镀膜工艺。传统的一些镀膜工艺可能会产生大量的废气、废水和废渣,不符合环保标准。为了满足环保要求,企业不得不加大研发投入,开发更加环保的镀膜技术。

镀膜工艺中的关键参数有哪些?

其一,真空度。真空镀膜通常在高真空环境下进行,真空度的高低直接影响镀膜的效果。如果真空度不够,空气中的杂质和气体分子会混入镀膜过程,导致膜层中出现气孔、

不同镀膜设备的特点与优势

​设备的特点和优势主要体现在以下几个方面。首先,PVD 设备可以在较低的温度下进行镀膜,这对于一些对温度敏感的材料来说非常重要,可以避免材料在高温下发生变形或性能改变。其次,PVD 设备能够控制膜层的厚度和成分,从而实现特定的性能要求

镀膜材料特性对镀膜效果的影响

镀膜工艺中,镀膜材料的特性对镀膜效果有着至关重要的影响。
首先,镀膜材料的硬度决定了镀膜后的表面硬度。如果镀膜材料本身硬度较高,那么镀成的膜层也会具有较高的硬度,能够更好地抵抗刮擦和磨损。

HIPiMS 技术的检测速度有多快?

HIPiMS技术的检测速度是其性能的一个重要指标,它直接影响着该技术在各个领域的应用效率和实用性。

HIPiMS 技术制备的薄膜具有哪些独特的性能?

HIPiMS技术制备的薄膜具有以下独特性能:HIPiMS技术能产生高密度的等离子体,使溅射出来的粒子具有较高的能量和活性,粒子在沉积到基底上时能够更紧密地堆积,形成致密度很高的薄膜