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镀膜材料特性对镀膜效果的影响
镀膜工艺中，镀膜材料的特性对镀膜效果有着至关重要的影响。
首先，镀膜材料的硬度决定了镀膜后的表面硬度。如果镀膜材料本身硬度较高，那么镀成的膜层也会具有较高的硬度，能够更好地抵抗刮擦和磨损。
HIPiMS 技术制备的薄膜具有哪些独特的性能？
HIPiMS技术制备的薄膜具有以下独特性能：HIPiMS技术能产生高密度的等离子体，使溅射出来的粒子具有较高的能量和活性，粒子在沉积到基底上时能够更紧密地堆积，形成致密度很高的薄膜
阴极电弧镀膜机是什么东西
阴极电弧镀膜机是一种物理 气相沉积(PVD)技术设备，主要用于在基材表面形成高质量的薄膜涂层。这项技术通过利用电弧放电产生的等离子体，将靶材（通常是金属或合金）蒸发成原子状态，然后这些原子沉积到待处理的工件表面
什么是真空镀膜，它有什么作用
真空镀膜技术是一种在真空条件下，利用物理或化学方法将材料蒸发或离子化后沉积于基材表面形成薄膜的过程。这种方法广泛应用于光学、电子、包装、装饰等行业，具有许多优点，如薄膜均匀性好、附着力强、厚度可控等。
HiPIMS电源的设计基础及研究进展
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种物理 气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）技术，它通过高频脉冲放电在磁控溅射靶材表面产生强烈的等离子体，从而实现的材料沉积。HiPIMS技术的关键在于其电源设计，因为电源性能直接影响到等离子体密度、薄膜质量和沉积速率等重要参数。