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利用HiPIMS制备出的Ti-Si-N薄膜硬度可以达到66GPa！
Ti-Si-N是被认为是一种高硬度的膜层，Veprek（1999）提出了一种结构模型，认为是非晶包含纳米晶结构。这有点类似于我们见到的沥青和石头混合路面结构。这里的纳米晶尺寸和非晶含量的多少是很讲究的。
HiPIMS技术解决碳基涂层
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）技术是一种先进的物理相沉积（PVD）技术，广泛用于解决碳基涂层的相关问题。碳基涂层是一种重要的功能性涂层，应用于各种工业领域，包括刀具、模具、汽车零部件等。下面将详细介绍HiPIMS技术如何解决碳基涂层的问题。
HiPIMS技术解决碳基涂层
HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技术是一种用于制备碳基涂层的先进技术。碳基涂层是一种由碳元素构成的薄膜，具有许多优异的性质和应用。以下是关于HiPIMS技术解决碳基涂层的一些信息
镀膜工艺技术分类和理论
镀膜工艺技术是一种将薄膜或涂层沉积在基材表面的技术，以改变其表面性能或增加其功能。它在工业生产和科学研究中具有广泛的应用，从电子设备到汽车零件，再到医疗器械，都离不开镀膜技术。镀膜技术按照不同的原理和方法可分为多种分类。
hipims技术是物理还是化学
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）技术是一种物理上的表面处理技术，它结合了直流磁控溅射（DCMS）和脉冲功率供应，以实现更高的能量和离子密度。
镀膜工艺技术分类和理论
镀膜工艺技术是一种将薄膜沉积在基材表面的工艺过程，以增强基材的功能和性能。根据不同的工艺原理和沉积方法，可以将镀膜工艺技术分为不同的分类。以下是关于镀膜工艺技术分类和理论的简要说明：