真空镀膜和电镀的区别

真空镀膜和电镀都是常见的表面处理技术，用于改善物体外观和性能。它们有一些共同点，但也存在着一些明显的区别。下面我将详细介绍这两种技术的区别。

HiPIMS：简单的方法就能调控磁控溅射中的金属/气体离子比？

1）磁控溅射：HiPIMS中简单的脉宽变化，就能调控膜层中的金属/气体离子比。

2）常规的磁控靶换成HiPIMS电源就可以达到上述效果。

不平凡的钒靶HiPIMS（放电区直径约３０ｍｍ放电电流达１４０Ａ）

金属钒（V）作为一种高熔点的稀有金属材料，常与铌、钽、钨、钼并称为难熔金属。金属钒具有耐盐酸和硫酸的性能，并且耐气-盐-水腐蚀的性能要比大多数不锈钢好。在某些特殊的重要场合，金属V薄膜常被用来作为高温隔离防护涂层，因此开展V靶HIPIMS放电特性方面的研究工作具有重要的意义。

6种靶材HiPIMS放电大不相同，设计工艺要知道!

HiPIMS放电，由于工作在放电曲线的特殊区域，其放电特性不仅依赖于使用的气压、电压，更依赖于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脉冲工作，其放电特性具有时间特征，而表现出不同的放电特性。这里我们选用常用的几种靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），给出了他们的放电特性。这种与时间相关的放电特性，对于工艺设计是非常重要的。

双脉冲HiPIMS比传统HiPIMS沉积速率提高近3倍

一种新型的高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术，即放电由脉宽短、电压高的引燃脉冲和脉宽长、电压低的工作脉冲2部分组成的双脉冲高功率脉冲磁控溅射技术，目的是解决传统高功率脉冲磁控溅射沉积速率低的问题。

2023中国真空镀膜行业发展趋势高峰论坛圆满落下帷幕

HiPIMS中不同脉冲波形制备氧化铌薄膜

在Nb靶氧反应溅射时，用合适的HiPIMS脉冲波形可以抑制进气迟滞回线，在没有气体控制器下同样能保证工艺稳定性。

真空弧放电下不同寻常的阴极腐蚀图案

对于真空弧放电下的弧斑导致的阴极材料的腐蚀研究其实由来已久。对于真空弧放电下的弧斑主要有两种，一种是移动较快、较小、较暗的弧斑，主要发生在较脏的靶面和氧化的靶面；另一种是移动较慢、较大较亮的弧斑，其主要发生在干净和惰性气体放电时的靶面。