脉冲磁控溅射是一种用矩形波电压脉冲电源代替传统直流电源的磁控溅射
(1)真空蒸发:将需要涂膜的基材清洗干净，放入涂膜室。膜材料抽真空后加热至高温，使水蒸气达到13.3Pa左右，水蒸气分子飞到基板表面凝结成膜。
真空镀膜技术与湿法镀膜技术相比，具有以下优点:(1)膜材和基片材料选择广泛，膜厚可控制，可制备多种功能不同的功能膜。
真空镀膜原理:1. 物理气相沉积技术是指利用各种物理方法，在真空条件下汽化成原子和分子或电离成离子，将电镀材料直接沉积在基材表面的方法。
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